Novellus製品

Novellusは、半導体デバイスの生産に使用される製造装置の設計、製造、サービスを行っています。当社のCVD(化学気相成長法CVD:chemical vapor deposition)、PVD(物理気相成長法PVD:physical vapor deposition)、電解めっき(ECD:electrochemical deposition)、CMP(化学機械平坦化CMP:chemical mechanical planarization)、ドライ式洗浄装置は最も低い製造コストを実現しており世界中の先端半導体メーカーにご愛用いただいております。

NovellusのプラズマCVD(PECVD) 、あるいは高密度プラズマCVD (HDP CVD) は、絶縁膜（薄膜の絶縁材）を作るCVDシステムです。非常に高性能なデバイスに使われる誘導体膜では、UV　キュア (UVTP)が用いられています。また、配線用タングステン膜(W-CVD)を成膜するために用いられるCVD装置もあります。さらに、銅配線に必要なバリアー／シード膜とよばれる成膜を行うPVD(PVD)装置や、銅チップ上に銅線を構築するために用いられる電解めっき(ECD)製品もあります。CMP(CMP)製品は、ウエハーを平坦に保つようウエハーの表面を研磨するために用いられ、ドライ式洗浄装置は、製造処理段階の間の残留物や汚染物質を取り除いてウエハーを洗浄するために用いられます。